30μm 窒化アルミニウム(AlN)セラミックマイクロスフィア 優れた熱伝導性、電気絶縁性、耐高温性、化学的安定性を備えた高性能無機非金属材料です。ミクロンスケールの球状構造により、先端電子パッケージ、複合材料補強材、熱伝導性材料などの幅広い応用が期待されています。
30μm窒化アルミニウム(AlN)セラミックマイクロスフィアの主な特徴:
高い熱伝導率 – 170~200 W/(m·K)の熱伝導率を持つAlNマイクロスフィアは、 熱伝導性材料(TIM)における熱放散 および電子機器のパッケージング。
優れた電気絶縁性 - 超高抵抗率(>10¹⁴ Ω·cm)により、 AlNフィラー 高電圧アプリケーション、PCB 基板、絶縁コーティングに最適です。
耐高温性 - 融点が 2200°C であるため、過酷な環境でも安定性が確保され、航空宇宙、パワーエレクトロニクス、LED ヒートシンクなどに適しています。
低 CTE (4.5×10⁻⁶/°C) – 半導体材料 (Si、GaN、SiC) に適合し、チップ パッケージングとパワー モジュールの熱応力を軽減します。
高純度と化学的安定性 - 耐腐食性、耐酸性/耐アルカリ性があり、過酷な産業用途や化学環境に最適です。
均一な球状構造 - 狭い粒子分布 (D50≈30μm) により、ポリマー、複合材料、3D プリント材料における優れた流動性と均一な分散が保証されます。
品目番号 :
F-30サイズ :
30μm注文(MOQ) :
1KG製品の起源 :
CHINA色 :
Gray-white
アイテム | F-30 |
D50(μm) | 30 |
D90(um) | 50 |
粒子の形状 | 球状 |
比表面積(m2/g) | 3.31 |
嵩密度(g/cm3) | 1.5 |
タップ密度(g/cm3) | 1.9 |
応用 :
1. 電子機器の封止
高熱伝導性 窒化アルミニウム 材料 放熱性を高めるために、IC パッケージ、LED ヒートシンク、半導体基板などに広く使用されています。
2. 熱伝導性材料(TIM)
熱性能を向上させる CPU、GPU、パワーエレクトロニクスにおける効率的な熱伝達を実現する熱伝導グリース、熱接着剤、相変化材料。
3. 複合補強
ポリマーマトリックス複合材 (PMC) および金属マトリックス複合材 (MMC) に使用され、軽量で高性能なコンポーネントの機械的強度と熱伝導性を高めます。
4. 航空宇宙・防衛
熱安定性と低 CTE により、高温コンポーネント、航空電子機器の冷却、極限環境での高出力電子機器に最適です。
5. 3Dプリント材料
として機能します 高性能AlN粉末 積層製造向けで、複雑な耐熱構造の精密セラミック 3D プリントを可能にします。
パッケージ
10~20kg/バケツ
窒化アルミニウム充填剤は窒素を満たしたアルミホイルの袋に詰められ、その後鉄製のドラムに詰められます。
厦門Juciテクノロジー株式会社の強み
大規模生産:数少ない大量生産の一つ AlN粉末メーカー 中国でも安定供給を実現しています。
正確な粒子サイズ制御: カスタマイズ可能な粒子サイズ分布を備えた幅広いマイクロスフェア (30 ~ 150 μm) を提供します。
エンドツーエンドの機能: 粉末合成から完成したセラミック製品まで、ワンストップソリューションを提供します。
厳格な品質管理:純度 ≥ 99%、電子グレードの材料基準を満たしています。
JUCI テクノロジーは、技術革新を推進力として、5G、新エネルギー、その他の最先端産業向けの効率的な熱管理ソリューションを継続的にサポートします。
会社とL実験的な
メディア連絡先:
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