窒化アルミニウム（AlN）セラミックリング

窒化アルミニウム（AlN）セラミックリング 高純度窒化アルミニウム粉末を精密成形と高温焼結プロセスで製造した高性能特殊セラミック部品です。優れた熱伝導性、電気絶縁性、耐高温性、低熱膨張係数を有し、 AlNセラミック リングは、半導体装置、高出力LED、RF/マイクロ波デバイスなどの分野で広く使用されており、現代産業に欠かせない主要材料となっています。 主な機能と利点1、優れた熱伝導性熱伝導率は最大 170 ～ 220 W/(m·K) で、アルミニウムの熱伝導率に近く、アルミナセラミック (約 30 W/(m·K)) をはるかに上回り、高出力デバイスの効率的な放熱を保証します。 2、優れた電気絶縁性 体積抵抗率 >10¹⁴ Ω·cm、低誘電率 (8-9)、高周波および高電圧環境に適しており、安全で安定した回路動作を保証します。 3、高温安定性 最高 2200°C の温度に耐え、極端な熱サイクル条件下でも構造的安定性を維持し、優れた耐熱衝撃性を発揮します。 4、低熱膨張係数 熱膨張係数（4.5×10⁻⁶/℃～4.9×10⁻⁶/℃）はシリコン（Si）チップと一致しているため、熱ストレスが軽減され、デバイスの寿命が延びます。 5、化学的不活性と機械的強度 酸/アルカリ腐食および酸化に耐性があり、硬度が高く (モース硬度 8 ～ 9)、耐摩耗性、耐衝撃性があります。