窒化アルミニウム(AlN)るつぼは、そのユニークな材料特性により、高温や特殊な環境において幅広い応用価値を持っています。
半導体、結晶成長、高温実験に極めて安定したソリューションを提供
主な特徴
①極度の温度に耐える(最大2200℃) - 不活性雰囲気でも安定しており、従来のセラミックるつぼをはるかに上回る性能を発揮します。
②優れた熱伝導率(170 W/m·K) - 均一な加熱を保証し、熱応力を最小限に抑え、結晶成長の品質を向上させます。
③ゼロカーボン汚染 - グラファイトフリーで、金属溶解や半導体処理における不純物ドーピングを防止
④優れた耐食性 - 溶融金属(Al/Cu/Ga)および腐食性の塩に耐えます
品目番号 :
Aluminum Nitride (ALN) Crucibleサイズ :
Customization製品の起源 :
CHINA色 :
Gray-white窒化アルミニウムるつぼは、多くの産業や分野で広く普及しています。
一般的な用途
半導体産業:GaAs/GaN単結晶成長、電子パッケージング材料
材料科学:高融点金属(W/Mo)の溶融、窒化物/炭化物の合成
エネルギー貯蔵:リチウム電池正極の高温焼結、固体電解質の研究
工業用途: 精密セラミック焼結、光学ガラス加工
データシート
プロパティ | 状態 | ユニット | AN-180 |
密度 | -- |
g/cm3 |
3.32 |
熱伝導率 | 25℃ |
W/m·K |
180 |
曲げ強度 | 3点法、25℃ |
MPa |
410 |
絶縁 | 25℃ |
KV/mm |
31 |
体積抵抗率 | 25℃ |
Ω·cm |
3.4×1014 |
誘電率 | 1MHz |
— — |
8.8 |
誘電損失 | 1MHz |
— — |
6.5×10-4 |
熱線膨張係数 | 25~400℃ |
×10-6/K |
4.6 |
当社の強み
アモイ・ジュシ・テクノロジーは工場面積3万平方メートル、生産工場には単式焼結炉30台と先進的な連続焼結炉8台を備え、窒化アルミニウム粉末の生産能力は最大1,000トン/年です。試験センターは約800平方メートルで、走査型電子顕微鏡、粒度分布測定器、窒素酸素分析装置、粉末総合試験装置、熱伝導率計など、100台以上の専門的な粉末およびセラミックス試験設備を備えています。同社は1200平方メートルの研究開発センターを擁し、40台以上の研究開発専用設備を備えています。また、30名以上の研究開発チームが製品の最適化と革新を絶えず推進し、激しい市場競争の中で競争優位性を維持しています。
メディア連絡先:
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