窒化アルミニウムるつぼ

窒化アルミニウム（AlN）るつぼは、そのユニークな材料特性により、高温や特殊な環境において幅広い応用価値を持っています。 半導体、結晶成長、高温実験に極めて安定したソリューションを提供   主な特徴 ①極度の温度に耐える（最大2200℃） - 不活性雰囲気でも安定しており、従来のセラミックるつぼをはるかに上回る性能を発揮します。 ②優れた熱伝導率（170 W/m·K） - 均一な加熱を保証し、熱応力を最小限に抑え、結晶成長の品質を向上させます。 ③ゼロカーボン汚染 - グラファイトフリーで、金属溶解や半導体処理における不純物ドーピングを防止 ④優れた耐食性 - 溶融金属（Al/Cu/Ga）および腐食性の塩に耐えます

窒化アルミニウムセラミックスは、真空蒸着や金属精錬の容器として使用でき、特に次の用途に適しています。 アルミニウム真空蒸着るつぼ窒化アルミニウムセラミックスは蒸気圧の低い真空中で加熱されるため、分解してもアルミニウムを汚染することがありません。半導体産業では、石英るつぼの代わりに窒化アルミニウムるつぼを使用してヒ素を合成することで、GaAs 上の Si の汚染を完全に排除し、高純度の製品を得ることができます。 電子材料るつぼ、工業用溶融るつぼ、化学分析るつぼ、等々。 窒化アルミニウムるつぼ 新しいタイプの 高温るつぼ石英るつぼに比べて耐熱性と耐薬品性が優れています。窒化アルミニウムるつぼが石英るつぼに比べて優れている点は次のとおりです。 より高い耐熱性: 窒化アルミニウムるつぼは、石英るつぼを 300°C 以上上回る 1800°C までの温度で動作できるため、より高温の実験要件を満たします。 優れた耐化学的耐食性: 窒化アルミニウムるつぼは、酸や塩基などの腐食性媒体中で優れた安定性を示し、腐食や溶解を防止するため、より過酷な環境での使用に適しています。 高い耐摩耗性: 窒化アルミニウムるつぼの硬度は石英るつぼの 2 倍以上であるため、摩耗しにくくなり、耐用年数が長くなります。