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  • 窒化アルミニウムセラミックチューブ:多様な業界に対応する高性能ソリューション
    最高品質をお探しですか? 窒化アルミニウムセラミックチューブ当社の製品は優れた特性により市場で際立っており、多様な産業用途に最適です。 主な利点 優れた熱伝導率: 熱伝導率は 170 ~ 210 W/(m·K) で、放熱性に優れており、高出力電子機器に最適です。 優れた電気絶縁性: 室温で 10¹⁴ Ω·cm を超える体積抵抗率を誇り、高電圧環境でも安全な動作を保証します。 高強度・耐腐食性:曲げ抵抗は300~400MPa、高温(1000℃以上)および化学薬品に対する耐性があり、過酷な作業条件に適しています。
  • 窒化アルミニウム(AlN)るつぼ – 高温、耐腐食性、低汚染用途に最適
    窒化アルミニウム(AlN)るつぼは、そのユニークな材料特性により、高温や特殊な環境において幅広い応用価値を持っています。 半導体、結晶成長、高温実験に極めて安定したソリューションを提供   主な特徴 ①極度の温度に耐える(最大2200℃) - 不活性雰囲気でも安定しており、従来のセラミックるつぼをはるかに上回る性能を発揮します。 ②優れた熱伝導率(170 W/m·K) - 均一な加熱を保証し、熱応力を最小限に抑え、結晶成長の品質を向上させます。 ③ゼロカーボン汚染 - グラファイトフリーで、金属溶解や半導体処理における不純物ドーピングを防止 ④優れた耐食性 - 溶融金属(Al/Cu/Ga)および腐食性の塩に耐えます
  • 窒化アルミニウムセラミック正方形シート 100x100x1mm
    窒化アルミニウム(AlN)セラミック正方形シート 精密に加工されたセラミック材料で、 高純度AlN粉末 高度な焼結技術により、優れた熱伝導性、電気絶縁性、熱機械特性で知られるAlNセラミックは、 シート 高出力電子機器、LEDパッケージ、半導体デバイス、RF/マイクロ波部品などに広く使用されており、現代の電子機器にとって重要な材料となっています。   主な機能と利点 超高熱伝導率(180~220 W/m·K) - アルミナより5~10倍優れた効率的な放熱性 優れた電気絶縁性(10¹⁴ Ω·cm) - 高電圧用途に最適 パワーエレクトロニクス(IGBT、パワーモジュール)およびオプトエレクトロニクス(LED、レーザーダイオード)における実証済みの信頼性 熱管理と電気絶縁の両方を必要とするEV電源システムと鉄道コンバータのための重要なソリューション  
  • 様々な直径の窒化アルミニウム(ALN)リング
    窒化アルミニウム(AlN)セラミックリング 高純度窒化アルミニウム粉末を精密成形と高温焼結プロセスで製造した高性能特殊セラミック部品です。優れた熱伝導性、電気絶縁性、耐高温性、低熱膨張係数を有し、 AlNセラミック リングは、半導体装置、高出力LED、RF/マイクロ波デバイスなどの分野で広く使用されており、現代産業に欠かせない主要材料となっています。   主な機能と利点 1、優れた熱伝導性 熱伝導率は最大 170 ~ 220 W/(m·K) で、アルミニウムの熱伝導率に近く、アルミナセラミック (約 30 W/(m·K)) をはるかに上回り、高出力デバイスの効率的な放熱を保証します。 2、優れた電気絶縁性 体積抵抗率 >10¹⁴ Ω·cm、低誘電率 (8-9)、高周波および高電圧環境に適しており、安全で安定した回路動作を保証します。 3、高温安定性 最高 2200°C の温度に耐え、極端な熱サイクル条件下でも構造的安定性を維持し、優れた耐熱衝撃性を発揮します。 4、低熱膨張係数 熱膨張係数(4.5×10⁻⁶/℃~4.9×10⁻⁶/℃)はシリコン(Si)チップと一致しているため、熱ストレスが軽減され、デバイスの寿命が延びます。 5、化学的不活性と機械的強度 酸/アルカリ腐食および酸化に耐性があり、硬度が高く (モース硬度 8 ~ 9)、耐摩耗性、耐衝撃性があります。
  • 様々な直径の窒化アルミニウム(ALN)ボール
    私たちの 窒化アルミニウム(AlN)セラミックボール 高い熱伝導性、低い熱膨張率、優れた電気絶縁性、そして卓越した機械的強度を備えており、要求の厳しい産業用途に最適です。高純度材料と高度な焼結技術を用いて製造された当社の AlNセラミックボール 高密度と低多孔性を確保し、過酷な条件下でも優れた性能を発揮します。   当社の AlN セラミックボールを選ぶ理由 超高熱伝導率(170~200 W/m·K) - 効率的な放熱に最適 低熱膨張 - 高温環境でも安定性を確保 高強度・耐摩耗性 – 長寿命 優れた電気絶縁性 - 電子機器や半導体用途に最適 耐腐食性および耐酸化性 – 化学産業および航空宇宙産業の過酷な条件に適しています  
  • 高熱伝導性AlNフィラー(S-120μm) - 高性能放熱ソリューションを強化
    厦門ジュチテクノロジー株式会社が 高熱伝導性窒化アルミニウム(AlN)ギャップフィラー 粉末(120μm)、 高熱伝導性インターフェース材料 高度な熱用途向けに設計されています。優れた熱伝導率(理論値:170~200 W/m·K)、低誘電率、そして卓越した絶縁特性を備えたこの製品は、電子パッケージ、複合材料、 熱伝導性材料120μmという精密に制御された粒子径は、優れた分散性と充填密度を保証し、マトリックス材料の熱管理効率を大幅に向上させます。 主な機能: 1、超高熱伝導性:セラミックおよびポリマー複合材料の熱性能を飛躍的に向上させ、効率的な放熱により電子機器の安定した動作を実現します。効果的な熱ネットワークを形成し、迅速な熱伝達を実現し、動作温度を低下させます。 2、低酸素含有量と高結晶度:低酸素含有量により、固有の熱伝導性が向上し、高結晶度により、過酷な環境でも安定した信頼性の高いパフォーマンスが保証されます。 3、狭い粒度分布と優れた流動性: 均一な等尺形態で正確に制御された 120μm の粒子サイズにより、製造中の分散が容易になり、最終製品のパフォーマンスが一定になり、不良率を最小限に抑えます。 4、優れた耐加水分解性:表面改質により優れた耐湿性を実現し、性能低下なく長期保管安定性を確保します。
  • 高熱伝導シリーズ – 100μm窒化アルミニウム(AlN)フィラー
    厦門ジュチテクノロジー株式会社は、高熱伝導シリーズ100μm多結晶を発表した。 窒化アルミニウム(AlN)フィラー 高度な熱管理複合材料向けに設計された高純度セラミックフィラー「SOLASパウダー」。最先端の合成・分級技術を駆使し、優れた熱伝導性、優れた化学安定性、そして最適化された粒度分布を実現しています。ポリマー、接着剤、セラミックマトリックスの放熱性能を大幅に向上させ、電子パッケージング、LED冷却、5G通信デバイス、高出力モジュールなどの用途に最適です。 主な機能: 1、超高熱伝導率 多結晶 AlN は理論上の熱伝導率が 170 ~ 200 W/(m·K) であり、電子部品における高熱流束放散の課題に効果的に対処します。 熱膨張係数が低い (≈4.6×10⁻⁶/K) ため、半導体材料と一致し、界面応力を最小限に抑えます。 2、正確な粒子サイズ制御 D50 ≈ 100μm、均一な粒子分布で充填密度を最適化し、効率的な熱経路を形成します。 樹脂や金属との適合性を向上させるカスタマイズ可能な表面処理(シランカップリング剤改質など)。 3、高純度と信頼性 純度99%以上、酸素含有量 < 1%で、誘電特性への影響を最小限に抑えます。 耐高温性(> 1800°C)と耐腐食性があり、過酷な環境に適しています。 4、多用途 熱接着剤/ペースト: 充填すると熱伝導性が向上します。 セラミックマトリックス複合材料: 高熱伝導性の絶縁基板や包装材料に使用されます。 熱伝導性材料(TIM): 電子アセンブリの接触熱抵抗を低減します。
  • 80μm高熱伝導性AlNフィラー——電子機器の過熱を解決
    80μmの 窒化アルミニウム(AlN)フィラー厦門ジュチテクノロジーが開発した電子パッケージング用に設計された高性能セラミック材料である。 熱伝導性材料(TIM)、高熱伝導性複合材料です。精密に制御された粒度分布(D50≈80μm)、超高純度(≥99%)、そして優れた熱伝導率(170~200 W/(m·K))を特徴とし、ポリマー、金属、またはセラミックマトリックスの熱管理効率を大幅に向上させます。5G通信、新エネルギー車、パワーエレクトロニクスなど、要求の厳しい放熱用途に最適です。 主な機能: 1、優れた熱伝導率 理論上の熱伝導率は 170~200 W/(m·K) で、電子機器の熱管理の課題に効果的に対処します。 2、正確な粒子サイズ制御 平均粒子径(D50)80μmの均一な分布により、樹脂、金属、セラミックマトリックスとの優れた分散性と適合性が保証されます。 3、高純度、低酸素含有量 純度 ≥ 99%、酸素含有量 ≤ 1% で、高周波、高電圧アプリケーションにおける化学的安定性と電気絶縁性を保証します。 4、低誘電率と低損失 低い誘電率(ε ≈ 8.8)と最小限の誘電損失(tanδ < 0.001)で、高周波回路のパッケージングに最適です。 5、優れた機械的特性 高い硬度と耐摩耗性により、複合材料の機械的強度が向上します。
  • Sシリーズ 80μm 熱伝導性AlN粉末 – 優れた熱伝導性フィラー
    Sシリーズ 80μm AlN熱伝導性フィラー 高性能です 熱管理材料 高出力エレクトロニクス、5G通信、新エネルギー車、LED照明、高度なチップ冷却アプリケーション向けに設計されています。独自の粒子グラデーション技術と表面改質プロセスを採用することで、超高熱伝導率を実現し、放熱効率を大幅に向上させ、現代の電子機器の安定した長寿命性能を保証します。 主な機能: 1、優れた熱伝導性 高純度セラミック材料(窒化アルミニウムなど)と最適化された80μmの粒子分布から作られ、高密度の熱伝導ネットワークを形成し、従来の充填剤に比べて熱伝導率が向上し、界面熱抵抗が効果的に低減します。 2、正確な粒子サイズ制御 80μmの微細粒子は優れた充填能力を提供し、マトリックス材料(シリコン、エポキシ樹脂など)との密着を確保し、空隙を最小限に抑えて迅速かつ均一な熱伝達を実現します。 3、優れた電気絶縁性 高い絶縁特性(体積抵抗率 >10¹⁴ Ω·cm)を維持しながら熱性能を向上させるため、敏感な電子部品に最適です。 4、強い化学的安定性 高温や腐食に耐性があり、過酷な動作環境に適しています。 5、優れた互換性 熱伝導グリース、熱伝導パッド、接着剤、その他の複合材料に簡単に組み込むことができ、さまざまな用途の要件を満たすことができます。
  • TIM、LED、電子パッケージング用のプレミアム150μm窒化アルミニウム粉末
    厦門ジュチテクノロジー株式会社は、150μm 高純度窒化アルミニウム(AlN)フィラー 高性能熱伝導性複合材料向けに設計された機能性セラミックフィラーです。超微粒子(150ミクロン)、高純度(99%以上)、低酸素含有量といった優れた特性を備え、ポリマー、金属、セラミックマトリックス複合材料の熱伝導率を大幅に向上させます。電子パッケージ、熱伝導性界面材料(TIM)、その他様々な用途に広く使用されています。 高出力LEDの放熱、などなど。 主な機能: 1、優れた熱伝導性 AlN は理論上の熱伝導率が 170 ~ 200 W/(m·K) と従来のアルミナフィラーの 5 倍以上あり、複合材料全体の熱効率を大幅に向上させます。 2、正確な粒度分布 D50: 150μm、均一な粒子サイズ、滑らかな表面、優れた分散性により、マトリックス内で効率的な熱伝導ネットワークの形成が保証されます。 3、高純度・低酸素含有量 純度 ≥ 99%、酸素含有量 ≤ 1% で、不純物による誘電特性と熱伝導率への影響を最小限に抑え、高周波電子機器に最適です。 4、優れた電気絶縁性 体積抵抗率 >10¹⁴ Ω·cm、誘電率が低い (~8.8) ため、高い絶縁性が要求される電子パッケージングに適しています。 5、強い化学的安定性 耐高温性(空気中で 1400°C まで安定)、耐腐食性、エポキシ樹脂、シリコーンゲル、その他のマトリックス材料との優れた適合性を備えています。
  • 120 μm AlNフィラー - 高純度放熱材料
    厦門ジュセリテクノロジーの120μm 窒化アルミニウム(AlN)フィラー 粉末は、高純度、高熱伝導性のセラミック粉末材料であり、高性能熱伝導性複合材料、電子パッケージング用に特別に設計されています。 熱伝導性材料(TIM)、高熱伝導性プラスチック/ゴムなどの用途に使用できます。均一な粒度分布(D50≒120μm)と優れた化学的安定性により、優れた電気絶縁性と機械的強度を維持しながら、マトリックス材料の熱伝導性を大幅に向上させます。 主な機能: 1、超高熱伝導率 理論上の熱伝導率は170~200W/(m·K)で、複合材料の放熱効率を効果的に向上させます。 2、正確な粒子サイズ制御 均一に分布した平均粒子サイズ (D50) 120μm により、容易に分散し、樹脂/ポリマー マトリックスとの強力な適合性を確保します。 3、高純度・低酸素含有量 純度 ≥ 99%、酸素含有量 ≤ 1% で、不純物による誘電特性と熱伝導率への影響を最小限に抑えます。 4、優れた断熱性能 体積抵抗率 >10¹⁴ Ω·cm。高い絶縁性が求められる電子用途に適しています。 5、化学的安定性 高温や腐食に耐性があり、高温多湿の環境でも安定した性能を維持します。 6、表面の修正可能性 ご要望に応じて、シランカップリング剤またはその他の表面改質剤で処理して、マトリックスとの界面結合を強化することもできます。
  • 高熱伝導性窒化アルミニウム(AlN)フィラー(50μm) – プレミアムサーマルフィラー
    50μm 窒化アルミニウム(AlN)セラミックマイクロスフィア エリア 高性能熱フィラー 複合材料の熱管理特性を向上させるために設計されています。優れた熱伝導率(約170~200 W/mK)と優れた電気絶縁性を備えたAlNマイクロスフィアは、電子パッケージ、熱伝導性接着剤、熱伝導性プラスチック、高出力LEDの放熱に最適です。 主な機能: 高い熱伝導率: 複合材料の熱伝達効率を効果的に向上し、重要な冷却用途に最適です。 均一な粒子サイズ: 50μm のマイクロスフィアにより均一な分散が保証され、機械的性能と熱的性能が最適化されます。 電気絶縁: 高い抵抗率により、電子機器の絶縁要件に適しています。 高温および酸化耐性: 高温環境における優れた安定性。 軽量: 密度が低いため、製品全体の重量が軽減されます。
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